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软件详情页
简单介绍：
STP603 ISO160F Edwards涡轮分子泵是的涡轮分子泵，可用于的半导体应用。
STP603 ISO160F Edwards涡轮分子泵是Edwards 的转子可实现的性能，大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
详情介绍：
详述
Edwards STP603 是的增压原子泵，可以选择于的半导体技术技术应用软件。Edwards 的电机定转子可构建的特性，大的工艺主动性氧高性。这般泵己经由半导体技术技术和磁媒介市场的超大型机器手工销售商进行用到，并获取了。
app
金属制（铝）、钨和电材质（阳极氮化合物）并且多晶硅等化合物刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
手机回转振动 (ECR) 刻蚀
薄膜和珍珠棉积累 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
阴阳离子吸取源，射束线泵送混凝土端点站
MBE
扩散转移
光致抗蚀剂脱膜
结晶/晶膜发展
晶片排查
环境下锁负压腔
专业检测设备：表面层探讨、质谱探讨、微电子透射电镜
一般物理化学：射束线、t迅游加速器
蔓延线软件：协同平台、螺旋
功能性和长处
的电机转子
大的制造智能化性
隔膜真空泵
低共振
间距
免检修
的抑制器装修设计
主动调整
强制诊断报告的功能
直流电压三相电机推动
无电池板运动
主体工程型制定
土地征用面積小
Edwards STP603 是的增压原子泵，可以选择于的半导体技术技术应用软件。Edwards 的电机定转子可构建的特性，大的工艺主动性氧高性。这般泵己经由半导体技术技术和磁媒介市场的超大型机器手工销售商进行用到，并获取了。
app
金属制（铝）、钨和电材质（阳极氮化合物）并且多晶硅等化合物刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
手机回转振动 (ECR) 刻蚀
薄膜和珍珠棉积累 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
阴阳离子吸取源，射束线泵送混凝土端点站
MBE
扩散转移
光致抗蚀剂脱膜
结晶/晶膜发展
晶片排查
环境下锁负压腔
专业检测设备：表面层探讨、质谱探讨、微电子透射电镜
一般物理化学：射束线、t迅游加速器
蔓延线软件：协同平台、螺旋
功能性和长处
的电机转子
大的制造智能化性
隔膜真空泵
低共振
间距
免检修
的抑制器装修设计
主动调整
强制诊断报告的功能
直流电压三相电机推动
无电池板运动
主体工程型制定
土地征用面積小
半机架控住器
数据资料
| 无线运营中心法兰部 | ISO160F |
| KF40 | |
| 抽速 |
|
| N2 | 650 ls-1 |
| H2 | 550 ls-1 |
| 挤压比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 供暖时的上限学习压力（VG/ISO 法兰片） | 6.5 x 10-6 Pa |
|
|
(5 x 10-8 Torr) |
| 加温时的重力压差（ICF 法兰盘） | 10-7 Pa |
|
|
(10-9 Torr) |
| 威海续阻力 | 13 Pa (0.1 Torr) |
| 稳定强度 | 35000 rpm |
| 重启时段 | 6 分钟左右 |
| 高入口处法兰片湿度 | 120 °C |
| 设置端电压 | 100 至 120 (± 10) V 联络或 |
|
|
200 至 240 (± 10) V 互动 |
| 发动时的功能损耗 | 0.8 kVA |
| 泵含水量 | 31 kg |
| 管理器克重 | 9 kg |