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车辆详情介绍
简单介绍:
STP-XA3203C ISO320F 爱德华磁悬浮涡轮分子泵基于新的平台设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。
STP-XA3203C ISO320F 爱德华磁悬浮涡轮分子泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能,并提高气体的吞吐量。
详情介绍:
分析
STP-XA3203C 涡轮机泵为高进口真空到 2300 sccm 制造流的制造标准内给出高耐腐蚀性,并延长其他气体的货运量。
此泵系统设计的概念新的服务平台设计的概念,出具的功能以可以改善散热管理,以此改善在严谨生产工艺中的稳定性,从而提高大生产工艺流业务能力,并可以减少结垢和累积的引响。
其优秀的能既支持于柔和的软件周围学习环境,也支持于严格要求的周围学习环境,比如说半导体技术刻蚀、装入、光刻和 LCD 制造。
运用
废金属(铝)、钨和电材质(防非金属氧化物)或者多晶硅等亚铁离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
電子回转震动 (ECR) 刻蚀
pet薄膜沉积物 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
铝离子植入源,射束线混凝土泵送端点站
MBE
外扩散
光致抗蚀剂起模
晶状体/晶膜繁殖
晶片查
短路电流锁正空腔
科学技术实验室设备:外壁了解、质谱了解、光电显微镜观察
低能高中物理:射束线、提速器
STP-XA3203C 涡轮机泵为高进口真空到 2300 sccm 制造流的制造标准内给出高耐腐蚀性,并延长其他气体的货运量。
此泵系统设计的概念新的服务平台设计的概念,出具的功能以可以改善散热管理,以此改善在严谨生产工艺中的稳定性,从而提高大生产工艺流业务能力,并可以减少结垢和累积的引响。
其优秀的能既支持于柔和的软件周围学习环境,也支持于严格要求的周围学习环境,比如说半导体技术刻蚀、装入、光刻和 LCD 制造。
运用
废金属(铝)、钨和电材质(防非金属氧化物)或者多晶硅等亚铁离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
電子回转震动 (ECR) 刻蚀
pet薄膜沉积物 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
铝离子植入源,射束线混凝土泵送端点站
MBE
外扩散
光致抗蚀剂起模
晶状体/晶膜繁殖
晶片查
短路电流锁正空腔
科学技术实验室设备:外壁了解、质谱了解、光电显微镜观察
低能高中物理:射束线、提速器
射线线应用软件:结合体统、回转
特点和胜机
的定子规划
激发的 H2、N2 和 Ar 功效
完善了在高真空度到 2300 sccm 工艺负担区间内的性能参数
免服务器维护
5 轴磁浮动系統
无的污染
低高频振动
性力矩管理制度
得到 的电动机扭矩极大减少物理系统
提升的的温度工作系统软件
高温度 TMS 实力
沉闷积
内裝置冷却塔机械制造裝置
高的有机废气气体运输量(加熱和未加熱)
延长了生命周期
可以使用于严峻工艺
适合 SEMI®,还具有 CE 标识,列于 UL 中
数据报告
填报志愿系统法兰片 | ISO320F |
抽速 |
|
N2 | 3200 ls-1 |
H2 | 2300 ls-1 |
文件压缩比 |
|
N2 | >108 |
H2 | >6 x 103 |
极根气压 | 10-7 Pa |
大不能前级气压 | 266 Pa |
大充许乙炔气流量的 |
|
N2(风冷确) | 2300 sccm |
|
(3.8 Pam3s-1) |
Ar(水冷散热器却) | 1900 sccm |
|
(3.2 Pam3s-1) |
载荷系数速率 | 27500 rpm |
启动服务器期限 | 8 min |
比较固定地理位置 | 任何人导向 |
水冷式却 |
|
联通流量 | 3 lmin-1 |
环境温度 | 5-25 °C (41-77 °F) |
负荷 | 0.3 MPa |
的吹扫气味总流量 | 50 sccm |
|
(8.4 x 10-2 Pam3s-1) |
搜索电压值 | 200 至 240 (± 10) V 座谈会 |
工作电压 | 1.5 kVA |
泵重量体积 | 80 kg (176 lb) |
掌控器总重 | 12 kg (26.4 lb) |